Deep X-ray Lithography法を用いた二酸化チタン三次元フォトニック結晶の作製

抄録

可視領域でのフォトニック結晶を用いたデバイスを考えた場合、酸化チタンは数少ない有力な候補である。直進性、パターン精度の極めて高いシンクロトロン放射光を用いて高分子厚膜をサブミクロン精度で微細加工し、緻密な二酸化チタンを液相析出法を用いて充填したのち高分子を除去することにより、直径640nm高さ2ミクロンの二次元、フォトニック結晶、また直径400nmの三次元フォトニック結晶作製に成功した。