磁性半導体ナノガラスの作製

抄録

電子ビームリソグラフィーによりII-VI族希薄磁性半導体の規則配列ナノ構造を作製し、高純度ガラス薄膜を積層した磁性半導体ナノガラス構造を実現した。具体的には、直径や幅が数十nmオーダーのZn1-x-yCdxMnySe磁性半導体量子ドットや細線構造を作製し、アスペクト比の高いこのようなナノ構造に対してほぼ100 %の被覆率を持ちかつダメージのない超高真空スパッターによるガラス薄膜積層化プロセスを開発した。磁性半導体ナノガラスにおいては、励起子巨大ゼーマン効果などの特徴的な巨大磁気光学効果や規則構造によるフォトニック効果が発現し、新しい能動型磁気光学素子への展開を図ることが可能になる。