ペロブスカイト酸化物を用いた一次元フォトニック結晶の作製

抄録

ペロブスカイト型酸化物を用いて，可視光領域にフォトニックバンドギャップを持つ一次元フォトニック結晶を作製することを目的とした。MgO(100)基板上に(Ba,Sr)TiO3を12分間，MgOを45分間それぞれ４層ずつ合計８層積層させた試料は，それぞれ膜厚が50 nm，75 nmとなった。可視光領域での反射率測定の結果，波長450～650 nmにかけてバンドギャップを持つことがわかった。また，積層時間をそれぞれ10分間，30分間とし，合計８層積層させた試料は，それぞれ膜厚が45 nm，40 nmとなり、波長350～500 nmにバンドギャップを持つ一次元フォトニック結晶であることがわかった。