日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2009年年会講演予稿集
セッションID: 2B03
会議情報

ペロブスカイト酸化物を用いた一次元フォトニック結晶の作製
*大野 健綾戸 祐一保科 拓也武田 博明鶴見 敬章
著者情報
会議録・要旨集 フリー

詳細
抄録
ペロブスカイト型酸化物を用いて,可視光領域にフォトニックバンドギャップを持つ一次元フォトニック結晶を作製することを目的とした。MgO(100)基板上に(Ba,Sr)TiO3を12分間,MgOを45分間それぞれ4層ずつ合計8層積層させた試料は,それぞれ膜厚が50 nm,75 nmとなった。可視光領域での反射率測定の結果,波長450~650 nmにかけてバンドギャップを持つことがわかった。また,積層時間をそれぞれ10分間,30分間とし,合計8層積層させた試料は,それぞれ膜厚が45 nm,40 nmとなり、波長350~500 nmにバンドギャップを持つ一次元フォトニック結晶であることがわかった。
著者関連情報
©  日本セラミックス協会 2009
前の記事 次の記事
feedback
Top