活性窒素種照射下でのパルスレーザー堆積法を用いた非晶質窒化炭素薄膜の作製と電気化学的特性の評価

抄録

非晶質炭素(a-C)は優れた機械的、光学的特性を有し、ダイヤモンドライクカーボンと呼ばれるように、ダイヤモンドに似た特性を有す。また、非晶質炭素に窒素を導入することによって得られる非晶質窒化炭素(a-CNx)はa-Cと比べて導電性が良い事が報告されており、本研究室ではこれまでに窒素ガス雰囲気下で作製したa-CNx膜の構造と電気化学的特性について報告をしてきた。本研究では、窒素ラジカルビーム照射下および窒素プラズマ雰囲気中でパルスレーザー堆積法(PLD法)を用い非晶質窒化炭素薄膜を作製し、得られた膜の電気化学的特性と構造との関係について検討した。