圧電薄膜アクチュエータにおける膜厚最適化と材料設計指針

抄録

光MEMSスキャナーを事例に、圧電薄膜アクチュエータの設計における圧電層の最適な厚みや材料設計の指針を提示する。通常、材料設計では圧電定数の向上をメインに考えるが、耐電圧を高く設計することで、膜厚を薄くし、実行上の駆動力を増強すれば、実用的なデバイス性能が得られることを圧電駆動型光MEMSスキャナーを事例に実証、成膜技術としてエアロゾルデポジション法を用いることの有効性を確認した。