NITE-SiCセラミックスの成型過程における緻密化挙動

抄録

SiC/SiC複合材料の製造法であるNITE(Nano-Infiltration Transient Eutectic-phase)法は経済性と共に、製造可能な寸法や形状の複雑性における自由度の大きさから、緻密な構造用複合材料製造技術として非常に期待されている。NITE法の緻密化に伴う粒子の再配列、粒成長挙動や焼結助剤の効果などの焼結メカニズムに関しては未解明な部分が残されており、これらを解明することは、NITE法のプロセス条件を最適化する上で非常に重要である。本研究では、問題解決の基礎としてNITE-SiCセラミックスの緻密化挙動について検討した。