PETフィルムへのVUV光励起酸素種を用いたSiOx膜の低温形成

抄録

シリコン前駆体ペルヒドロポリシラザン（PHPS）を真空紫外（VUV）光励起により生成した励起酸素原子（O(¹D））やオゾン（O₃）等の活性酸素種と反応させることにより，ポリエチレンテレフタレート（PET）上への酸化シリコン（SiOx）膜の低温形成を試みた。その結果，乾燥空気フロー中でのVUV光照射は，PHPSコーテイング膜における水素や窒素の脱離，および酸素の取り込みによるSiOxへの転化に有効であることがわかった。形成したSiOx膜は緻密かつ透明であった。SiOx膜の形成によりPETフィルムは表面硬さの向上することが明らかになった。