抄録
希薄条件下においてStöber法により数十nm程度のシリカナノ粒子を作製し、その粒子濃度の高濃度化を検討した。希薄条件下で作製したシリカナノ粒子は20 nm程度の大きさであった。このときの粒子濃度は0.8 wt%程度であったが、減圧下で溶媒を蒸発させることにより、凝集することなく3 wt%程度の粒子濃度までの濃縮が可能であった。出発原料中の溶媒であるエタノールの量を少なくしたときに粒子径は増大したが、水の量は変えずにシリカ源であるオルトケイ酸テトラエチルの量を増加させることによって、粒子径は増大せずに約3 wt%の粒子濃度の溶液が作製可能であった。
