面密度 0.153 の磁性ナノ粒子薄膜作製過程の数値シミュレーション

宮井 拓巳; 大村 高弘; 早坂 良

doi:10.12792/iiae2017.019

2017

DOI https://doi.org/10.12792/iiae2017.019

会議情報

主催: 産業応用工学会

会議名: 産業応用工学会全国大会2017

回次: 5

開催地: 九州工業大学　戸畑キャンパス

開催日: 2017/09/21 - 2017/09/23

面密度 0.153 の磁性ナノ粒子薄膜作製過程の数値シミュレーション

*宮井拓巳, *大村高弘, *早坂良

著者情報

会議録・要旨集オープンアクセス

p. 35-36

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抄録

本研究では粒子を液体に懸濁しその液滴を基盤上に滴下して，液体を蒸発させることにより磁気特性と沈降する現象を利用し，粒子を付着させ薄膜を製造することを目的とする．具体的には磁場を印加し，粒子の沈降現象に及ぼす，粒子間磁気力の大きさ，粒子の質量密度，ならびに懸濁液の温度の影響を種々に設定し，全粒子が沈降し無次元面密度0.153の薄膜が形成される条件を詳細に明らかにする．

責任著者(Corresponding author)

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