フォトマスクにおける欠陥検出手法の検討

抄録

現在，半導体製造工程の露光において使用されるフォトマスクの検査は，作業員の目視検査により行われており，欠陥部分の見落とし，作業員への負担が大きいといった課題がある。 そこで本研究は，フォトマスク内の欠陥数の把握や使用限界を判断するアルゴリズムの開発を目的とする．本検討では，画像処理技術を用いて正常画像と欠陥画像を分類する手法の検討を行った．その結果，正常・欠陥分類を100%の精度で分類できる結果を得た．