スパッタリング法によるTi-Ni形状記憶合金薄膜の作製とその形状記憶特性の評価

抄録

等比組成のTi-Ni合金円板に純Tiチップを配した複合ターゲットをスパッタすることで48～52at%Niの組成範囲のTi-Ni薄膜を作製した。成長した薄膜は非晶質であったので、結晶化させると共に平滑な形状を記憶させるために熱処理を施した。DSC測定、引張り試験、及び一定荷重下での温度走査に伴う歪み変化の計測等から薄膜の形状記憶特性を評価し、マイクロアクチュエータに適した薄膜の形成条件を検討した。