ウエット洗浄によるSiウエハ表面のナノ構造評価

抄録

光散乱法を用いたナノパーティクル測定機によるマイクロラフネス測定法の開発を行っている。今回、ベアSiウエハ表面に対してHF濃度の異なるウエット洗浄を行い、位相シフト干渉計と原子間力顕微鏡による洗浄前後の空間波長1mm～1nm程度までのパワースペクトル解析結果(PSD)から、洗浄によるSiウエハ表面への影響の検証を試みた。また、同時に測定した本測定機の洗浄前後の測定結果とPSDとの比較から、本測定機のマイクロラフネス測定法の検出空間波長の検証を試みた。