光学素子の平滑研磨技術に関する研究

修正研磨における滞留時間の計算方法

抄録

高精度な光学素子を目標形状に仕上げるためには修正研磨が必要である。以前から修正研磨方法として、研磨ヘッドを対象物のワーク表面上で速度を変化させながら走査(滞留時間制御)する方法を用いてきた。従来、シンプレックス法による滞留時間分布の数値計算では急峻な滞留時間分布となり、目標形状の達成が困難であった。本報では目標形状達成のため、より平準な滞留時間分布計算方法の提案及び、実計測形状データに適用した結果について報告する。