精密工学会学術講演会講演論文集
2007年度精密工学会春季大会
セッションID: C09
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CMPにおけるパッドドレッシングの検討(第4報)
*藤田 隆上川 大地土肥 俊郎
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抄録
可撓性ドレッサーを用いて研磨レート安定性を評価した。ドレッサーの途中部分交換を含むパッド立ち上げ時のレート変化を評価した結果、初期から50枚目までのレート範囲が2450±60A/minと安定して推移した。立ち上げ時のドレッシング面内分布について、色差を用いた均一性評価法により算出した結果、開発ドレッサーでは均一性8.0%と、従来ドレッサーの48.8%と比較して均一にドレッシングすることを示した。
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© 2007 公益社団法人 精密工学会
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