高性能レーザプラズマEUV(Extreme-ultraviolet)光源の開発

繰り返し発光特性の評価

抄録

パルスレーザを円錐貫通孔ターゲットに照射すると、アブレーションにより中心軸近傍に高密度プラズマが生成する。この高密度プラズマから放射される高輝度の極端紫外(EUV)発光を用い、EUVリソグラフィ光学系へのデブリ飛散の少ないクリーンで高性能な光源の開発を進めた。ここでは、貫通孔ターゲットに対して繰り返しレーザー照射を試み、計測されたEUV発光強度から光源特性を評価した結果について述べる。