炭素含有量制御によるB-C系薄膜の機械的特性向上

森田 次郎; 神崎 昌郎

doi:10.11522/pscjspe.2007S.0.991.0

抄録

ホウ素含有薄膜は高硬度であり,1000℃以上の高温でも化学的に安定しているなど優れた機械的特性を有している.さらに,鉄系材料の切削も可能であるので切削工具や、摺動部品への応用も期待されている.本研究では,DCマグネトロンスパッタリング法によりSi基板上にB-C薄膜を形成した.形成条件においてCターゲットへの電力を変化させることで炭素含有量を制御し,機械的特性において基板への密着力を向上させることができた.

著者関連情報

お気に入り & アラート

お気に入りに追加
追加情報アラート
被引用アラート
認証解除アラート

閲覧履歴

1923 Great Kanto Earthquake: Damages by the Quake and Tsunami
EXPERIMENTAL STUDY OF LASER DRIVEN COMPRESSION OF SPHERICAL GLASS SHELLS
CeO₂の光触媒活性に及ぼすYDCナノ粒子担持効果
Excel/VBAを用いたBASICプログラムのリユースとそれに伴う創発の育成
Unspliced X-box-binding protein 1 Protects Against Fibroblast Differentiation via Activating Nrf2 Signal during Pulmonary Fibrosis

責任著者(Corresponding author)

J-STAGEへの登録はこちら（無料）