大型矩形ガラス材の高平坦化研磨（第１報） 試料回転角速度制御による研磨距離の均一化

吉冨 健一郎; 宇根 篤暢; 餅田 正秋

doi:10.11522/pscjspe.2010S.0.63.0

2010年度精密工学会春季大会

セッションID: A64

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2010S.0.63.0

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主催: 社団法人精密工学会

大型矩形ガラス材の高平坦化研磨（第１報）

試料回転角速度制御による研磨距離の均一化

*吉冨健一郎, 宇根篤暢, 餅田正秋

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キーワード: フラットパネルディスプレイ, フォトマスク, 矩形ガラス, 平坦化, 研磨シミュレーション

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抄録

液晶パネル製造に使用されるガラス基板やフォトマスクは大型化が進み，大面積化に伴う平坦度の向上が問題となっている．本研究では工具軌跡制御研磨により矩形ガラス材の高平坦化を行うが，矩形状と工具軌跡による加工量の差が平坦化を困難にしている．本報告では，工具軌跡制御に試料回転角加速度を加え，試料上の研磨走行距離が均一になる条件を，糸巻き工具軌跡条件と併せてシミュレートし，最適工具軌跡を検討した．

責任著者(Corresponding author)

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