エッチャント原料ガスフリーなプラズマエッチング法による太陽電池用シリコン基板の表面改質特性

抄録

現在結晶Si太陽電池の製造工程には，ウェット，ドライ，真空など様々な環境下での表面処理技術が用いられており，製造コストの増大につながっている．我々は，さらなる低コスト化に向け，大気圧一貫かつドライ環境下で，スループットの高い処理を可能とする原料ガスフリーなドライエッチング技術の開発を行っている．今回は，本手法をシリコン表面の反射率低減，さらにはダメージ層除去へ適用したので，その結果を報告する．