高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発 放射光を用いたX線ミラー評価

松山 智至; 脇岡 敏之; 木谷 直隆; 横山 光; 三村 秀和; 佐野 泰久; 山内 和人

doi:10.11522/pscjspe.2011S.0.493.0

2011年度精密工学会春季大会

セッションID: G02

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2011S.0.493.0

会議情報

主催: 社団法人精密工学会

高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発

放射光を用いたX線ミラー評価

*松山智至, 脇岡敏之, 木谷直隆, 横山光, 三村秀和, 佐野泰久, 山内和人

著者情報

キーワード: X線ミラー, 集光光学系, X線顕微鏡

会議録・要旨集フリー

詳細

抄録

高密Ｘ線ナノビーム成形のために，既存のKirkpatrick-Baez光学系を発展させた並列型Kirkpatrick-Baez光学系の開発を進めている．形状誤差5nmで基板エッジ部分に作製されたX線ミラーをSPring-8で評価したところ，1次元集光で約50nm(FWHM)が得られた．本発表では，SPring-8で行われたX線ミラーの評価について詳しく報告する．

責任著者(Corresponding author)

J-STAGEへの登録はこちら（無料）