合金ターゲットを用いたスパッタ法によるZrCuNiAl金属ガラス薄膜の作製

抄録

本研究では，MEMS用構造材料として応用が期待できるZr65Cu17.5Ni10Al7.5を高周波マグネトロンスパッタリング装置で薄膜化し，作製条件が薄膜の内部応力や組成に及ぼす影響を調査した．その結果，薄膜の組成はターゲットから幾分ずれており，作製時のAr圧によって数%程度変化することが分かった．また，ZrCuNiAl金属ガラス薄膜の内部応力は，結晶の金属薄膜と同様にAr圧の増加に伴って圧縮から引張りに遷移することが明らかとなった．