触媒反応援用研磨法による単結晶ダイヤモンド基板表面の超平坦化

抄録

ダイヤモンドは，硬度，高伝導率，絶縁特性，耐環境性に優れた特性を有し，高耐圧，低損失，高速動作を可能とする冷却フリーな次世代省エネルギーパワーデバイス用材料として期待されている．しかしながら，ダイヤモンドは，物質中で最高の硬度を有し，熱的・化学的に極めて安定であることから，その加工は困難であり，ダイヤモンドの高能率・高精度加工法の開発が急務となっている．われわれは，溶液環境下における触媒反応を効果的に利用したダイヤモンドの加工方法を提案し，デバイス製作時に必要とされるダメージフリーな高品位ダイヤモンド面を創成することを目指している．本報告では，超平坦面創成プロセスの実験結果について報告する．