電子ビーム励起プラズマを利用した炭化ケイ素膜の合成

西尾 龍哉; 平田 敦

doi:10.11522/pscjspe.2012S.0.373.0

2012年度精密工学会春季大会

セッションID: E13

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2012S.0.373.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

電子ビーム励起プラズマを利用した炭化ケイ素膜の合成

*西尾龍哉, 平田敦

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キーワード: 炭化ケイ素膜

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抄録

炭化ケイ素膜の合成法としては化学気相成長法が一般的であるが，他元素の混入を防ぎより高硬度，高密度な膜を得ることを目的に，低圧化においても高密度なプラズマを得られる電子ビーム励起プラズマ装置を用いた物理気相成長法により炭化ケイ素膜を合成した．合成した膜は膜厚500nmを超えても剥離がなく均質であり，放電電圧を変化させることで膜中原子の結合状態を変化させられることがわかった．

責任著者(Corresponding author)

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