高圧水素貯蔵タンク内壁の平滑鏡面加工技術（第1報） 汎用スラリーによるAl-CMPと電解援用の効果

畝田 道雄; 土肥 俊郎; 佐島 隆生; 黒河 周平; 大西 修; 嶋田 俊太; 朴 成千; 三浦 崇寛

doi:10.11522/pscjspe.2012S.0.811.0

2012年度精密工学会春季大会

セッションID: J36

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2012S.0.811.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

高圧水素貯蔵タンク内壁の平滑鏡面加工技術（第1報）

汎用スラリーによるAl-CMPと電解援用の効果

*畝田道雄, 土肥俊郎, 佐島隆生, 黒河周平, 大西修, 嶋田俊太, 朴成千, 三浦崇寛

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キーワード: 化学機械研磨, アルミニウム, 電解印加, 高圧水素貯蔵タンク

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抄録

本研究では，CFRP強化層とアルミニウムライナから構成される次世代コンポジット型水素貯蔵蓄圧器の内壁を対象としたCMP（Chemical Mechanical Polishing）による研磨加工の高効率化を目的に，当該CMPプロセスに電解を印加する方式を提案している．本報告では電解印加がCMPの研磨特性に及ぼす影響について，研磨レート，並びに表面粗さの観点から検討した結果を述べる．

責任著者(Corresponding author)

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