シリコンの結晶異方性ウェットエッチングを用いた表面微細構造の作製

抄録

単結晶シリコンの３次元表面微細構造の加工手法として、水酸化テトラメチルアンモニウムを用いた結晶異方性ウェットエッチングがある。その加工表面の形状や処理後の表面状態は、エッチング液組成などの条件で大きく変化する。本研究では、イソプロピルアルコールの添加比率を変えたエッチング液を用いて、加工表面が平滑で、かつ、保護マスクパターンに従った表面微細構造の加工を実現したので報告する。