大気圧プラズマ酸化によるAlO_x/SiO₂/Siスタック構造の形成と評価

抄録

結晶Si太陽電池の更なる高効率化に向けて、変換効率低減の要因である表面再結合を抑制する表面パッシベーション技術が重要である。p形Si表面のパッシベーション膜として、負の固定電荷を有することからAlO_xが注目を集めている。本報では大気圧プラズマ酸化によってAlO_x/SiO₂/Siスタック構造を低温・高速形成し、評価を行った結果について報告する。