ヘプタンの接触分解に用いる修飾ZSM-5ゼオライトの耐スチーム性

久保 光平; 飯田 肇; 難波 征太郎; 五十嵐 哲

doi:10.11523/sekiyu.2012f.0_37

第42回石油・石油化学討論会（秋田）

セッションID: 2A18

DOI https://doi.org/10.11523/sekiyu.2012f.0_37

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主催: 公益社団法人石油学会

一般発表-石油化学(1)

ヘプタンの接触分解に用いる修飾ZSM-5ゼオライトの耐スチーム性

*久保光平, 飯田肇, 難波征太郎, 五十嵐哲

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抄録

軽質ナフサの接触分解に用いるH-ZSM-5を再生処理する際に起こる脱Alを抑制する方法について検討した．イオン交換率が約200 %のCu-ZSM-5は，750℃酸素共存下でのスチーム処理による活性劣化が起こらなかった．一方，還元雰囲気下で進行するヘプタン接触分解に対するCu-ZSM-5の活性は，未処理のH-ZSM-5と同等以上であった．

責任著者(Corresponding author)

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