抄録
アモルファスSi(a-Si:H)や微結晶Si（μc-Si:H）は,薄膜トランジスタや薄膜Si太陽電池などの,種々の薄膜デバイスにおいて非常に重要な材料である.本研究では,大気圧下におけるVHF(very high-frequency)励起プラズマを用いたa-Si:Hおよびμc-Si:H薄膜の低温・高速成膜技術の開発を行っている.今回,形成したSi薄膜の特性評価を行うとともに,膜の結晶化や特性に及ぼすプラズマパラメータの影響について検討した.さらに,形成したSi薄膜を用いて薄膜トランジスタを作製し,その電気特性を評価した結果について報告する.
