その場X線光電子分光法を用いた極薄酸化物表面上の吸着水の観察

GeO₂とSiO₂の比較

抄録

放射光を光源とした湿度制御条件（0～約15%）下でのin situ XPS測定により、Ge(100)基板上に形成した熱酸化膜（GeO₂）表面における吸着水の取り込み特性を観測すると共に、吸着水がGeO₂膜の電気的性質に与える影響を調査した。また得られた結果をSiO₂/Si試料と比較し、GeO₂/Ge構造の特異性を明らかにすることを試みた。