二次非線形性を補正する位相抽出アルゴリズムを用いた透明試料の表面形状測定

金 亮鎮; 日比野 謙一; 杉田 直彦; 光石 衛

doi:10.11522/pscjspe.2014S.0_87

2014年度精密工学会春季大会

セッションID: A78

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2014S.0_87

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

二次非線形性を補正する位相抽出アルゴリズムを用いた透明試料の表面形状測定

*金亮鎮, 日比野謙一, 杉田直彦, 光石衛

著者情報

キーワード: 位相抽出アルゴリズム, 波長走査, 位相シフト干渉法, 表面形状

会議録・要旨集フリー

詳細

抄録

近年半導体チップの微細化に伴いパターンの原版となるマスクガラスの表面形状の精密測定は益々その需要を伸ばしており，位相シフト干渉法を用いて測定及び評価が行われてきた．本研究では位相シフト干渉法で用いるアルゴリズムとして位相シフト量の2次非線形性まで補正出来るアルゴリズムとその検証実験に関して報告する．

責任著者(Corresponding author)

J-STAGEへの登録はこちら（無料）