凹曲面レジストパターンへのエポキシ樹脂注入によるマイクロレンズアレイの製作

抄録

膜厚10μmのポジ型レジストを用い、結像位置を意図的にずらしたレンズ投影露光によりマイクロレンズアレイの型とする正方配置と六方最密配置の凹面パターンを形成した。形成した凹曲面型にエポキシ樹脂を流し込んで固めた後、剥離すればマイクロレンズアレイを成形できることが分かった。最後に、レンズの集光性能を検証した。製作したレンズのピッチは42.1μm、曲率半径は28.3μm、集光スポット径は約3μmであった。