半導体構造の形状評価の研究（第2報） TEM及びCD-SEM画像によるFinFET形状の測定

岩城 祐輝; 高橋 哲; 高増 潔

doi:10.11522/pscjspe.2016S.0_23

2016年度精密工学会春季大会

セッションID: A16

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2016S.0_23

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主催: 公益社団法人精密工学会

半導体構造の形状評価の研究（第2報）

TEM及びCD-SEM画像によるFinFET形状の測定

*岩城祐輝, 高橋哲, 高増潔

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キーワード: 半導体, SEM, TEM

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抄録

近年，半導体産業における回路の微細化が進んでいる．しかしながら，微細な回路に対応した測定方法及び評価方法は確立されていない．そこで我々は，新しい半導体構造として注目を浴びているFinFET構造の形状評価方法の確立を目指す．FinFETは，従来とは異なり，3次元構造を持つ．本報では，TEM及びCD-SEMを用いてFinFET構造の形状解析を行い，両者の結果を比較する．

責任著者(Corresponding author)

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