精密工学会学術講演会講演論文集
2016年度精密工学会春季大会
セッションID: E83
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革新的CMP/P-CVM融合加工装置の設計・試作(第11報)
B-Type装置によるGaN基板加工特性とその加工メカニズム
*大山 幸希西澤 秀明土肥 俊郎會田 英雄金 聖祐佐野 泰久黒河 周平山崎 直樹
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キーワード: CMP, PCVM, Plasma fusion CMP, GaN
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抄録
難加工材料の高品質・高能率加工を目指し、開発したCMPプロセスと大気圧プラズマ加工法(PCVM)を融合した”革新的Plasma fusion CMP”装置を用いて、GaN基板の加工プロセスを検討した。反応ガス種に着目し、ここでは、酸素を用いる事で、安全でかつ高品質・高能率加工が可能である事を見出した。GaN基板表面の酸化膜形成が加工特性に影響を及ぼすことから、GaN基板の加工メカニズムを明らかにした。
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© 2016 公益社団法人 精密工学会
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