GaN研磨加工高能率化の研究

紫外線直接照射が可能な光透過型研磨定盤の試作とその効果（第2報）

抄録

GaN基板は，高周波領域における中耐圧パワーデバイス用途として期待されている．しかし，GaN基板は化学的に非常に安定しているため高平坦を得るために非常に長い日数を要してしまう．本報告では，研磨加工の高能率化を目指し，紫外線透過型研磨装置を試作した．研磨部材では，紫外光透過型研磨布，強アルカリ機能水の効果も検討した．その結果，2インチサイズのGaN基板を用い研磨加工速度の増大効果を確認したので，その結果を報告する．