高濃度CF₄ガスを用いた高圧プラズマCVDによるフルオロカーボン膜の形成

抄録

PPFC(Plasma Polymerization Fluorocarbon)膜は、絶縁性・耐薬品性を有する撥水膜として様々な応用が期待されている。しかし、その原料ガスには、C₄F₈など高次の炭素を含有するフルオロカーボンガスが用いられることがもっぱらであり、PPFC膜の形成を廉価なCF₄で実現できれば、コストメリットは大きい。そこで本研究ではCF₄原料ガスからのPPFC膜の高速形成を目指し、高圧プラズマを用いたCVDの適用を試みた。PPFC膜の形成に寄与するパラメータを調査した結果を報告する。