ナノスケールにおける加工現象可視化に関する研究 第3報：散乱光強度評価

白川 裕晃; カチョーンルンルアン パナート; 鈴木 恵友

doi:10.11522/pscjspe.2017A.0_985

2017年度精密工学会秋季大会

セッションID: P46

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2017A.0_985

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2017年度精密工学会秋季大会

開催地: 大阪大学

開催日: 2017/09/20 - 2017/09/22

ナノスケールにおける加工現象可視化に関する研究

第3報：散乱光強度評価

*白川裕晃, カチョーンルンルアンパナート, 鈴木恵友

著者情報

キーワード: ナノ粒子, 散乱光, 光学顕微鏡法, エバネッセント光, 多波長

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抄録

ナノスケールにおける加工現象として，ナノ粒子を用いたポリシング加工がある．本研究は，ポリシング加工のナノ粒子の挙動を観察し，ナノ粒子による加工現象を解明することを目的とする．そこで本研究では，表面上近傍に局在するエバネッセント光を用いた実時間観測を行っている．既知のナノ単粒子に多波長エバネッセント光を当て，その散乱光の強度を調べたので，ここに報告する．

責任著者(Corresponding author)

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