高圧プラズマCVDによるフルオロカーボン膜の形成

原料ガス種の影響

抄録

PPFC(Plasma Polymerization Fluorocarbon)膜は、優れた電気特性や撥水性を発現する機能膜として現在注目されている。PPFC膜の形成には、一般的にC₆F₆やC₄F₈などの原料ガス中の炭素数が大きなフルオロカーボン（FC）ガスが用いられているが、原料ガスが高価であるという問題がある。一方、我々は、高圧プラズマを用いて廉価なCF₄からPPFC膜の形成に成功している。そこで、今回はC₄F₈を原料ガスとしてPPFC膜を形成し、CF₄で得られる膜との相違を調査した。その結果を報告する。