主催: 公益社団法人精密工学会
会議名: 2019年度精密工学会春季大会
開催地: 東京電機大学
開催日: 2019/03/13 - 2019/03/15
p. 550
SiCは次世代半導体パワーデバイス用材料として有望である.本研究では,SiCに対する陽極酸化を用いたスラリーレスの電気化学機械研磨法の開発を目的としている.本報では,SiC表面の電気化学機械研磨において、陽極酸化電流密度を1 mA/cm2に維持し、軸の回転数を500 rpmから1500 rpmまでに変化することにより、陽極酸化レートと研磨レートのバランスを制御し、このバランスが研磨後の表面粗さに与える影響を調査した結果を報告する.