精密チェックパターンを用いたステレオカメラによる精密ステージの位置・姿勢計測

抄録

ステレオカメラを用いて精密ステージの位置・姿勢をマイクロメートルの精度で計測するシステムを構築した。とくに、精密なチェックパターンを印刷したセラミック板を精密ステージに設置し、チェックパターンの寸法を拘束条件としてステージの位置姿勢を算出することで、マイクロメートルの精度を維持しながら、計測できるステージ回転角度の拡大と測定時間の短縮化を図った。