スペックル光を利用したリソグラフィ技術による厚膜レジストへのパターン形成の基礎検討

抄録

スペックル光を利用して、厚膜レジストに立体的なランダムパターンを形成する光リソグラフィ技術を検討した。拡散板に波長403nmのレーザ光を当て、50μm厚のネガ型レジストを塗布したウエハを拡散板の後方45-200mmの位置に設置してスペックル光により露光した。最小寸法5μm〜10μmの高アスペクト比ランダムパターンが形成でき、露光量、ウエハ位置によりパターン密度を変化させ得ることを確認した。