疎水基を有する新規カチオン性ポリマーの開発

抄録

毛髪は熱，紫外線，摩擦など外的ダメージを日常的に受けており，シャンプーやコンディショナーなどの毎日のヘアケアでダメージを防止することが求められている。シャンプーにカチオン性ポリマーを配合することにより，洗髪時にシャンプー洗浄成分とカチオン性ポリマーの複合体（コアセルベート）が形成され，すすぎ時の髪のきしみ感が低減されることが知られている。特に，近年注目されている“ノンシリコーンシャンプー”ではシリコーンの代わりにコンディショニング効果を担うためカチオン性ポリマーが配合されているが，シリコーン配合シャンプーと比較して洗い流し時にきしみを感じるといった声がいまだ多い。一方，シャンプー後のコンディショナー塗布時には毛髪表面に残存したコアセルベートの電荷が正の方向になるため，電荷反発でコンディショナーが付着しにくいといった問題がある。これらを解決すべく，疎水基を有する新規ポリマーを設計し，毛髪に対する効果を動摩擦係数や接触角などを測定することによりシャンプーすすぎ時のみならず，シャンプー後に使用するコンディショナーの効果も向上させることができる新規カチオン性ポリマーを開発したので報告する。