システム制御情報学会 研究発表講演会講演論文集
第49回システム制御情報学会研究発表講演会
セッションID: 3B4-1
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半導体生産ラインの生産効率化のための汎用装置の運用ヒューリスティクスとその有効性
*大鷹 宏乾口 雅弘鶴見 昌代黒瀬 伸二
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抄録
半導体生造におけるイオン注入工程では,多種のイオン注入を数台の注入装置で行っている.イオン種切替の際には長時間の段取り替え作業が必要となる.本研究では,生産効率性を低下させる段取り替え時間を削減するため,イオン注入装置での使用イオンの専用化について考察する.専用化する装置とイオンを決定するヒューリスティクスを提案し,その有効性を現実データに基づくシミュレーションにより検証する.
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© 2005 システム制御情報学会
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