電解析出法により作製した純 Ni/Ni 合金多層膜中の引張変形中における応力分配挙動の測定

抄録

　軟質な純 Ni 層と硬質な Ni-W 層を交互に積層した純 Ni/Ni-W 層は高い強度と高い延性を保つ。この原因を明らかにするため、引張変形中の In-situ XRD 測定を行い、室温保持時間や層数の変化による各層への応力分配挙動の変化を調べた。その結果、Ni 層が降伏後も Ni-W 層が応力増加を担うため、加工硬化能を保持することが原因であることが明らかになった。また、層厚が薄くなりすぎると応力増加を担えなくなると考えられる。