ロールtoロール真空成膜法によるフレキシブル有機EL用バリア膜、電極膜形成技術

抄録

フレキシブル有機EL用フレキシブル基板上にロールtoロール真空成膜法を用いてガスバリア膜（CVD法）及び電極膜（スパッタ法）を形成する技術を開発した。フレキシブル基板上にロールtoロール法でバリア膜や電極膜を形成する場合、剛直で表面平坦性に優れたガラス基板上にシートtoシート法で形成する場合には生じないさまざまな問題が発生する。本報告では、フレキシブル基板の場合に発生する課題と対策技術を紹介する。