抄録
ULSI銅微細配線形成を目的とした無電解銅めっき法についての研究が盛んに行われている。中でも、Co(_II_)化合物を還元剤に用いる中性無電解銅めっき浴は、現行のホルムアルデヒドおよびEDTAを主成分とする無電解銅めっき浴における問題点を改善した浴であり、ULSI銅微細配線形成プロセスへの適用が期待されている。しかし、しかし、Co2+→Co3++e-の反応を利用した中性無電解銅めっき浴は、めっき浴の安定性および還元剤の空気酸化などの問題があり、工業的な使用に至っていない。このため、還元剤の酸化生成物を電解還元することにより、老化めっき浴を再生利用するプロセスについての検討が必要となる。 本研究では、めっき前後および電解再生前後におけるめっき浴成分の変化を調べた。また、還元剤の酸化生成物の電解還元プロセスについて電気化学的に検討した。
