電気学会論文誌C(電子・情報・システム部門誌)
Online ISSN : 1348-8155
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<電子物性・デバイス>
パルスレーザー堆積した室温成長エピタキシャル薄膜における熱処理後のナノ溝配列形成に及ぼす原子ステップ単結晶基板の影響
松田 晃史笠原 正靖吉本 護
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2015 年 135 巻 9 号 p. 1096-1097

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抄録

The influence of single crystal substrates on self-organized formation of surface nanogroove arrays after annealing of room-temperature grown NiO(111) epitaxial thin films was investigated. It was found that the different structural symmetry of NiO crystal domains on adjacent atomic terraces on the atomically stepped sapphire substrates significantly affected the formation of nanogrooves.

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