Si基板上に成膜したNd-Fe-B系磁石膜の厚膜化

清水 大; 竹馬 雄; 山下 昂洋; 柳井 武志; 中野 正基; 福永 博俊

doi:10.11527/jceeek.2015.0_66

平成27年度電気・情報関係学会九州支部連合大会（第68回連合大会）講演論文集

セッションID: 01-1P-03

DOI https://doi.org/10.11527/jceeek.2015.0_66

会議情報

主催: 電気・情報関係学会九州支部連合大会委員会

会議名: 平成27年度電気・情報関係学会九州支部連合大会

回次: 68

開催地: 福岡大学

開催日: 2015/09/26 - 2015/09/27

Si基板上に成膜したNd-Fe-B系磁石膜の厚膜化

*清水大, 竹馬雄, 山下昂洋, 柳井武志, 中野正基, 福永博俊

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抄録

本報告では，Nd-Fe-B系厚膜磁石のMEMSへの応用に向けSi基板上への成膜を検討した。Si基板とNd-Fe-B系厚膜磁石は，成膜もしくは熱処理時の熱膨張・熱収縮の差を通じての界面や試料・基板内への応力を起源とする磁石膜の剥離が生じる事が知られている。本研究では，SiとNd₂Fe₁₄B相の間の線膨張係数を有するNdに着目し，Nd-Fe-B系厚膜磁石内の化学量論組成に対しNd含有量を増加し，粒界層においてNdを析出させ，最大160 μm程度までの厚膜化を達成した。

責任著者(Corresponding author)

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