エレクトロニクス実装学会誌
Online ISSN : 1884-121X
Print ISSN : 1343-9677
ポリベンゾオキサゾール前駆体中の塩素イオン濃度のコロージョンへの影響
池田 修伊藤 文就長谷川 匡俊
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2005 年 8 巻 7 号 p. 561-566

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抄録

有機溶媒に可溶なポリベンゾオキサゾール (PBO) 前駆体は, べースモノマーとして, ビス (3-ヒドロキシ-4-アミノ) ジフェニルと, 2, 2'-ビス (3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル) ヘキサフルオロプロバンの混合物に, ジカルボン酸ジクロリドを加えて合成した。ゲル化防止などの目的で, 塩素を含む原材料を種々使用する。そのため, 不純物として多量の塩素イオンが含まれることがわかった。それが原因となって, 電子デバイスに使用される銅や銀などの金属部分にコロージョンを発生させた。種々の研究の結果, 大量の純水で精製することで, 塩素イオン濃度が500ppm前後となり, コロージョンの発生はなくなった。

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© 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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