Journal of Surface Analysis
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研究論文
電子線マイクロアナライザーによるMg-Ge合金の定量 -Mg Kα に対するGeの質量吸収係数の検討-
西尾 満章 吉川 英樹田沼 繁夫今井 基晴磯田 幸宏
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2017 年 23 巻 3 号 p. 149-159

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抄録
電子線マイクロアナライザーは広く材料の分析に用いられ,定量分析法はZAF法としてほぼ確立されている.しかし,Mg-Ge合金においては,定量分析の結果MgとGeの濃度の合計120wt.%と異常な値を示した.しかも電子線の加速電圧が高くなるに従ってMgの定量値が上昇する.この誤差の要因として吸収補正のパラメータの一つであるMg Kαに対するGeの既存の質量吸収係数の値の不確かさであると推定した.そこで,濃度既知のMg-Ge合金と参照物質MgOおよび金属GeのX線強度比を電子線の加速電圧15kV~30kVの範囲で測定し,その強度比変化を説明するGeのMg Kαに対する質量吸収係数として5561±200 cm2⁄gの値を得た.この値は,広く用いられているHeinrichらの値7510 cm2⁄gと大きく異なる.この大きな差異は,Mg KαのエネルギーがGeのLI吸収端とLII吸収端に近接していることから質量吸収係数の値の推定が難しいことに起因していると考えられる.
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© 2017 一般社団法人 表面分析研究会
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