特集記事：　レーザー照射されたスズドロップレットのダイナミクスとEUV 発光の放射流体シミュレーション

抄録

波長13.5 nmの極端紫外光源は次世代の半導体リソグラフィーの露光装置で用いられる光源として期待されている．EUV光源の高出力，高効率，高寿命化を目指した研究が世界中で進められ，最近では 200 Wレベルの EUV 出力がスズドロップレットに対してレーザーを照射することにより達成され，半導体の量産に要求される光源出力を達成しつつある．本稿ではスズドロップレットにレーザーを照射する際のスズの挙動，及び生成するスズプラズマからの EUV 発光特性について述べる．また，EUV 光源の課題について言及する．