次世代半導体リソグラフィー露光量産用EUV光源の開発が進んでいる．反射率が65 %-70 %のMo/Si多層膜鏡と光学結合するため，波長は13.5 nmである．光源はSn多価イオンプラズマ中でのn = 4 - n = 4遷移間の放射によるものである．帯域幅2 %，立体角2πsrでのエネルギー変換効率は4.7 %である．119時間連続で平均出力132 Wの運転が可能になっている．

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次世代半導体リソグラフィやX線顕微鏡の光源としてプラズマの応用技術開発が精力的に行われているが，プラズマの複雑な情報を含んでいる発光スペクトルの解析は理論計算に頼る部分が大きい．しかし，シミュレーション計算に用いられる原子データが全て理論計算によるものでは，その精度には限界があるのが現状である．本章では，プラズマを構成している多価イオンの遷移波長データ取得に有用な手法として，発光価数が限定可能な電荷交換分光法と，プラズマ中の最高イオン価数が制御可能な電子ビームイオントラップ（electron beam ion trap: EBIT）を用いた分光実験を紹介する．

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レーザー生成プラズマから発せられる極端紫外線（Extreme Ultraviolet, EUV）光源・水の窓光源はレーザーエネルギーから放射エネルギーへの変換効率を高めることが重要である．EUVリソグラフィの産業化を間近に控える背景から，変換効率を上げるための様々な研究がなされてきた．特に20 μm程度のスズの液滴（ドロップレット）をパルスレーザー照射により先行膨張させた後，CO₂レーザーを照射する手法はEUVリソグラフィ光源業界の標準手法となっている．本稿では，レーザーによるプラズマの生成とそこからのEUV放射に関して述べ，EUV放射への変換効率を高めるために我々が行った2つの診断技術に関して解説する．

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EUVリソグラフィーは実用化に向けて，光源出力改善が強く望まれている．プラズマを光源として使用する以上，それを最適化するためには、電子密度（n_e）や電子温度（T_e）といった基礎パラメータを制御し，最適なイオン価数（Z）を達成することが重要となるが，一般に微小（< 1 mm），短命（< 100 ns）な光源プラズマのn_e，T_e，Zを十分な時間空間分解能で計測するには困難がともなう。筆者らは協同トムソン散乱で得られるイオン項スペクトルを，独自の分光器を作製することで計測し，EUV光源用スズプラズマ内のn_e，T_e，Zやドリフト速度の空間分布一括計測が可能であることを示した．

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レーザー生成プラズマを媒質とするEUV光源研究開発において，実験結果の解析や最適化に用いられている原子過程，流体力学のシミュレーションの物理モデル，計算手法について紹介する．スズプラズマからEUV光が発生する機構，すなわち10価前後イオンの原子スペクトル線の性質をもとに，原子過程，輻射輸送のモデリングの重要性を示し，また，最近，高出力，高効率を達成するために用いられるようになった，ダブルパルスレーザー励起において初期にターゲットが溶融，蒸発する過程のモデリングの現状や課題を紹介する．

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波長13.5 nmの極端紫外光源は次世代の半導体リソグラフィーの露光装置で用いられる光源として期待されている．EUV光源の高出力，高効率，高寿命化を目指した研究が世界中で進められ，最近では 200 Wレベルの EUV 出力がスズドロップレットに対してレーザーを照射することにより達成され，半導体の量産に要求される光源出力を達成しつつある．本稿ではスズドロップレットにレーザーを照射する際のスズの挙動，及び生成するスズプラズマからの EUV 発光特性について述べる．また，EUV 光源の課題について言及する．

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水中における低エネルギー電子の挙動解析は，放射線化学に関する基礎研究や放射線によるDNA損傷の推定の解析等で重要となる．著者らは，これまで低エネルギー2次電子の果たすDNA損傷の役割を解明するため，不確定要素を未だ多く含む放射線物理化学過程の研究を進めてきた．また，これらの研究成果に基づき，DNA内部から電離した2次電子が関与する修復され難いDNA損傷生成過程を新たに理論予測した．本稿は，著者らのこれまでの研究成果について，放射線化学の専門誌で，前・中・後編の3部構成で「放射線物理化学過程に関する最近の進展」と題して解説するものである．中編では，本研究において開発した計算コードを検証するために実施した，電子の熱化距離や熱化時間に関する計算結果を紹介し，熱化と水和前過程について，これまでの従来予測と異なる点について議論した成果を解説する．

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・瀬古典明氏，平成28年度科学技術分野の文部科学大臣表彰受賞

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・参加報告Radiation Damage to DNA　　泉 雄大（広大放射光）
・The 3rd International Workshop on Radiation Effects in Nuclear Technology（RENT3）参加報告　　和田 陽一（日立製作所）
・留学体験記スウェーデンKTH　　熊谷 友多（原子力機構）

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・第26回IUPAC光化学国際会議報告　　藤塚 守，真嶋 哲朗（阪大産研）
・SLOPOS14印象記　　山脇 正人（産総研）
・第53回アイソトープ放射線研究発表会参加報告（初日）　　山下 真一（東大院工）
・第53回アイソトープ放射線研究発表会参加報告（二日目）　　葛谷 佳広（京大院工）

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・第59回放射線化学討論会プログラム　　前川 康成（量研機構）
・第16回放射線プロセスシンポジウムのお知らせ　　須永 博美（放振協）

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・事務局より：理事会議事録等　（事務局）

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